Grabado con plasma

El grabado con plasma es una forma de procesamiento con plasma que se utiliza para fabricar circuitos integrados. Implica una corriente de descarga luminosa (plasma) de alta velocidad de una mezcla de gases adecuada que se dispara (en pulsos) a una muestra. La fuente de plasma, conocida como especie de grabado, puede estar cargada (iones) o neutra (átomos y radicales). Durante el proceso, el plasma genera productos de grabado volátiles a temperatura ambiente a partir de las reacciones químicas entre los elementos del material grabado y las especies reactivas generadas por el plasma. Finalmente, los átomos del elemento disparado se incrustan en la superficie del objetivo o justo debajo de ella, modificando así las propiedades físicas del objetivo.^[1]​

1. ↑ «Plasma Etch - Plasma Etching». oxinst.com. Consultado el 4 de febrero de 2010.